全息光刻技术在实现超低阈值激光发射中的应用研究

项目名称： 全息光刻技术在实现超低阈值激光发射中的应用研究

项目编号： No.10974106

项目类型： 面上项目

立项/批准年度： 2010

项目学科： 数理科学和化学

项目作者： 王霞

作者单位： 青岛科技大学

项目金额： 42万元

中文摘要： 缺陷模激射和帯边激射是发生在光子晶体帯隙中的自发辐射增强现象，在低阈值纳米腔激光器研究中极具应用潜力。对这一现象的研究将会开拓有源光子器件的新思路，促进全光集成技术的发展。而获得低透射率、高反射率锐利带隙的新型光子晶体结构是探索研究光子激射现象的前提，在该方向，目前实验研究成果还受到微纳加工工艺的限制。本项目结合我们在全息光刻技术方面的研究基础和最新成果，设计制作新颖独特光子晶体结构，突破全息光刻不能制作缺陷模结构的局限，充分利用全息技术的灵活主动性，研究新型有源光子晶体结构的光致荧光和低阈值激射现象，探索影响激射阈值的因素。项目期望实验得到一维无序光子晶体的带边激射和光子局域现象；获得缺陷模超晶格光子晶体结构的低阈值激射；获得能实现超低阈值激射的光子带隙结构、泵浦源、增益物质等的优化匹配。通过该项目研究，将进一步揭示光子晶体对光子的调控能力，促进我国发展拥有自主知识产权的光子器件技术。

中文关键词： 激射；低阈值；全息光刻；缺陷模；

英文摘要：

英文关键词： Lasing；Low-threshold；Holographic Lithography；Defect Mode；