液动压悬浮抛光新方法研究

项目名称： 液动压悬浮抛光新方法研究

项目编号： No.51375457

项目类型： 面上项目

立项/批准年度： 2013

项目学科： 机械、仪表工业

项目作者： 文东辉

作者单位： 浙江工业大学

项目金额： 90万元

中文摘要： 原子级超光滑表面是高质量纳米薄膜生长的基石，提高衬底制备质量、改进制备方法有利于改善纳米薄膜表面质量及其特性，对于推动纳米薄膜技术发展具有重要的科学意义。 面向纳米薄膜生长衬底的原子级超光滑表面要求，提出了液动压均匀分布的悬浮抛光新方法。以铜和单晶硅试样为研究对象，建立楔形流场和平行流场的液固耦合作用模型，数值模拟液动压流场的分布，探索楔形抛光工具结构参数、抛光工具转速、液体粘度、约束边界形状及尺寸等对均匀液动压流场的影响规律，采用分子动力学研究磨粒流的冲击过程，揭示试样表面材料的原子级去除机理，试验研究不同工艺条件下的表面质量，综合利用纳米压痕/划痕、HRTEM、XRD、AFM、EBSD等测试表层形貌及亚表层的组织、残余应力、位错等，优化楔形抛光工具的结构、约束边界结构及悬浮抛光的工艺参数，建立液动压悬浮抛光加工理论与技术体系，为纳米薄膜的基础研究提供拥有自主知识产权的装备及技术。

中文关键词： 液动压；均匀分布；悬浮抛光；原子级超光滑表面；

英文摘要： Atomically smooth surface is a basis for nanofilm growth,it is sorely needed to improve the integrity during sample preparation process and surface quality and characterisitcs of nanofilm. This project is aimed to invent a new polishing method of atomica

英文关键词： Hydrodynamic pressure；Uniform distribution；Suspension polishing；Atomically supersmooth surface；